光刻機是制造芯片的核心裝備，提升光刻機的研發制造能力，對國產芯片發展進步至關重要。光刻機涉及多項復雜的先進技術，中國工程院譚久彬院士在《儀器儀表學報》2023年3期發表《超精密測量是支撐光刻機技術發展的基石》一文，文章對超精密測量技術在光刻機制造中的重要作用進行了闡述。

文章指出光刻機是尖端裝備的珠穆朗瑪峰。超精密測量是支撐光刻機產品研發與制造，保證光刻機產品制造精度等級與質量水平的基石。綜述了光刻機產業的特點與發展趨勢。在此基礎上，從零部件、分系統、整機集成、整機性能層面闡述了超精密測量對光刻機技術發展的支撐作用。分析了光刻機產品精密能力提升的途徑和超精密光刻機產業測量體系建立的必要性，包括管控超精密光刻機產品制造質量的工業測量體系和管控光刻機產品工業測量體系量值準確可靠的計量體系。提出了建設光刻機產業計量測試中心的必要性。

引用論文：譚久彬.超精密測量是支撐光刻機技術發展的基石[J/OL].儀器儀表學報:1-7[2023-04-19].http://kns.cnki.net/kcms/detail/11.2179.TH.20230413.1947.002.html

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作者簡介

譚久彬，中共黨員，2017年當選中國工程院院士。現任哈爾濱工業大學精密儀器工程研究院院長、國家計量戰略專家咨詢委員會副主任、國際測量與儀器委員會（ICMI）常務委員、中國儀器儀表學會第九屆理事會副理事長。長期從事超精密測量與儀器工程的科研與人才培養。面向高端裝備制造質量提升的特殊需求，提出超精密儀器與裝備精度調控方法及理論，研制成功4種國家級計量標準裝置和21種大型超精密測量儀器與超大型超精密測試裝備，創建了超精密儀器與裝備精度調控技術體系與平臺體系，解決了我國戰略武裝裝備、航空發動機、高性能衛星相機等36各重大型號高端裝備研制生產中的超精密測量與精度調控難題，顯著提升了重大型號裝備的精度水平。建成國內第一個超精密儀器研發基地和產業化基地。作為第一完成人，獲國家技術發明獎一等獎1項，二等獎2項。